公开/公告号CN1158697C
专利类型发明授权
公开/公告日2004-07-21
原文格式PDF
申请/专利权人 连威磊晶科技股份有限公司;
申请/专利号CN01109032.4
申请日2001-02-27
分类号H01L21/324;H01L21/20;H01L21/22;
代理机构北京三友知识产权代理有限公司;
代理人刘朝华
地址 台湾省新竹县
入库时间 2022-08-23 08:56:44
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2008-04-30
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2004-07-21
授权
授权
2002-12-25
实质审查的生效
实质审查的生效
2002-10-02
公开
公开
2001-06-27
实质审查请求的生效
实质审查请求的生效
机译: 获得双稳态电阻值的装置,制造相同电阻值的方法,金属氧化物薄膜和制造相同电阻值的方法
机译: 获得双稳态电阻值的装置,制造相同电阻值的方法,金属氧化物薄膜和制造相同电阻值的方法
机译: 获得双稳态电阻值的装置,制造相同电阻值的方法,金属氧化物薄膜和制造相同电阻值的方法