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一种用于光学散射测量的基于拟合误差插值的库匹配方法

摘要

本发明公开了一种用于光学散射测量的基于拟合误差插值的库匹配方法,包括:确定样品待测结构参数的变化范围并对其执行离散化处理,将所获得的离散网格点及其对应理论光谱值储存到光谱库中;获得待测样品的测量光谱并计算出离散网格点对应的测量光谱值与理论光谱值之间的拟合误差,然后将其同样储存到光谱库中;为拟合误差设定阈值并执行粗搜索,利用搜索出的拟合误差所对应的离散网格点来构建候选参数集,并对拟合误差执行多维插值处理获得相应的拟合误差插值函数;基于拟合误差插值函数细搜索找出全局最优点,其所对应的参数值即为最终确定的结构参数。通过本发明,能够提高库匹配过程的测量分辨率和准确度,并具备快速和便于操作的优点。

著录项

  • 公开/公告号CN102798342B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-11-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华中科技大学;

    申请/专利号CN201210272215.X

  • 发明设计人 刘世元;陈修国;张传维;朱金龙;

    申请日2012-08-02

  • 分类号G01B11/00(20060101);

  • 代理机构42201 华中科技大学专利中心;

  • 代理人朱仁玲

  • 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞瑜路1037号

  • 入库时间 2022-08-23 09:21:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-11-12

    授权

    授权

  • 2013-01-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 11/00 申请日:20120802

    实质审查的生效

  • 2012-11-28

    公开

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