法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-09-05
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C08F 2/00 变更前: 变更后: 申请日:20100707
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2014-10-08
授权
授权
2014-10-08
授权
授权
2012-07-04
实质审查的生效 IPC(主分类):C08F 2/00 申请日:20100707
实质审查的生效
2012-07-04
实质审查的生效 IPC(主分类):C08F 2/00 申请日:20100707
实质审查的生效
2012-05-23
公开
公开
2012-05-23
公开
公开
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机译: 光刻用聚合物的制造方法,光刻用聚合物,抗蚀剂组合物的制造方法以及在其上形成了图案的基板的制造方法
机译: 聚合物,组合物,制备聚合物的方法,组合物,成膜组合物,抗蚀剂组合物,辐射敏感组合物,用于形成光刻底层薄膜的组合物,形成抗蚀剂图案的方法,用于光刻制造底层膜的方法,形成电路的方法 形成光学构件的图案和组合物
机译: 聚合物的制造方法,光刻用聚合物,抗蚀剂组合物以及基板的制造方法