光刻工艺集成量测图形以及光刻工艺量测方法

摘要

本发明提供了一种光刻工艺集成量测图形以及光刻工艺量测方法。根据本发明的光刻工艺集成量测图形包括：用于量测垂直隔离线条的垂直隔离线条量测部分、用于量测水平隔离线条的水平隔离线条量测部分、用于量测垂直隔离沟槽的垂直隔离沟槽量测部分、用于量测水平隔离沟槽的水平隔离沟槽量测部分、用于量测垂直密集线条的垂直密集线条量测部分、用于量测水平密集线条的水平密集线条量测部分、用于量测垂直密集沟槽的垂直密集沟槽量测部分、用于量测水平密集沟槽的水平密集沟槽量测部分中的多个或全部。