公开/公告号CN102237244B
专利类型发明专利
公开/公告日2014-08-27
原文格式PDF
申请/专利权人 日新离子机器株式会社;
申请/专利号CN201010264799.7
发明设计人 中尾和浩;
申请日2010-08-27
分类号
代理机构北京信慧永光知识产权代理有限责任公司;
代理人李雪春
地址 日本京都市
入库时间 2022-08-23 09:20:26
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-08-27
授权
授权
2011-12-21
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/317 申请日:20100827
实质审查的生效
2011-11-09
公开
公开
机译: 能够搜索和调整离子束的电流密度分布数据和离子注入装置的束流密度分布的控制目标设定方法
机译: 离子束的电流密度分布的测量方法,使用相同的离子注入方法和离子注入装置
机译: 通过离子束调整电子束电流密度分布的离子注入方法和装置