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设定束电流密度分布的调整目标的方法和离子注入装置

摘要

本发明提供设定束电流密度分布的调整目标的方法和离子注入装置。离子注入装置沿与从多个离子束供给装置分别提供给处理室内的带状离子束的长边方向大体垂直的方向,输送玻璃基板,沿玻璃基板整个面,使由各带状离子束照射的区域重迭,在玻璃基板上形成大体均匀的离子注入量分布,在该离子注入装置中,根据离子注入条件,设定各离子束的束电流密度分布的调整目标,能高效地调整各离子束的束电流密度分布。根据对离子注入装置设定的离子注入条件,检索调整目标设定数据。在调整目标设定数据内有与离子注入条件一致的数据的情况下,使用从调整目标设定数据中读出的束电流值,设定各带状离子束中至少一个带状离子束的束电流密度的调整目标。

著录项

  • 公开/公告号CN102237244B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-08-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日新离子机器株式会社;

    申请/专利号CN201010264799.7

  • 发明设计人 中尾和浩;

    申请日2010-08-27

  • 分类号

  • 代理机构北京信慧永光知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人李雪春

  • 地址 日本京都市

  • 入库时间 2022-08-23 09:20:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-08-27

    授权

    授权

  • 2011-12-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/317 申请日:20100827

    实质审查的生效

  • 2011-11-09

    公开

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