公开/公告号CN101517465B
专利类型发明专利
公开/公告日2014-07-16
原文格式PDF
申请/专利权人 友辉光电股份有限公司;
申请/专利号CN200780031374.8
申请日2007-07-02
分类号
代理机构北京市柳沈律师事务所;
代理人马高平
地址 中国台湾台北市
入库时间 2022-08-23 09:19:58
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-07-16
授权
授权
2009-10-21
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-08-26
公开
公开
机译: 具有光学缺陷掩膜结构的亮度增强光学基底
机译: 具有光学缺陷掩膜结构的亮度增强光学基底
机译: 具有光学缺陷掩膜结构的亮度增强光学基底