进行累加计算,得到整体可见度Vent;S4:将整体可见度Vent进行G矩阵校正得到校正后的整体可见度V′ent;S5:将校正后的整体可见度V′emt进行反演成像运算得到目标场景的亮温分布T。本发明提供方法可以使微波辐射测量系统的空间分辨率得到一个甚至多个数量级的提高,同时为微波辐射测量带来全新的应用方式。"/> 一种分布式综合孔径辐射计阵列成像方法(CN201210344044.7)-中国专利【掌桥科研】
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一种分布式综合孔径辐射计阵列成像方法

摘要

本发明公开了一种分布式综合孔径微波辐射计阵列成像方法,包括S1:采用b个子阵列组成天线阵列,接收目标场景的微波辐射热信号,得到Ni路模拟信号,进行AD转换后输出数字复信号xj(t),t为离散时间变量,Ni为子阵列i的通道数;b为大于等于2的正整数;S2:在数字复信号xj(t)中选择子阵列i的任意两路xn(t)、xm(t),利用公式Vi=E[xn(t)xm(t)]计算各子阵列的可见度Vi;S3:将各个子阵列的可见度Vi代入公式进行累加计算,得到整体可见度Vent;S4:将整体可见度Vent进行G矩阵校正得到校正后的整体可见度V′ent;S5:将校正后的整体可见度V′emt进行反演成像运算得到目标场景的亮温分布T。本发明提供方法可以使微波辐射测量系统的空间分辨率得到一个甚至多个数量级的提高,同时为微波辐射测量带来全新的应用方式。

著录项

  • 公开/公告号CN102879781B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-05-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华中科技大学;

    申请/专利号CN201210344044.7

  • 申请日2012-09-18

  • 分类号G01S13/90(20060101);

  • 代理机构42201 华中科技大学专利中心;

  • 代理人朱仁玲

  • 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞瑜路1037号

  • 入库时间 2022-08-23 09:19:11

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-05-07

    授权

    授权

  • 2013-02-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01S 13/90 申请日:20120918

    实质审查的生效

  • 2013-01-16

    公开

    公开

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