公开/公告号CN102456078B
专利类型发明专利
公开/公告日2014-05-14
原文格式PDF
申请/专利号CN201010509280.0
发明设计人 张翼英;
申请日2010-10-18
分类号
代理机构北京市磐华律师事务所;
代理人董巍
地址 201203 上海市浦东新区张江路18号
入库时间 2022-08-23 09:18:50
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-05-14
授权
授权
2013-03-27
专利申请权的转移 IPC(主分类):G06F 17/50 变更前: 变更后: 登记生效日:20130227 申请日:20101018
专利申请权、专利权的转移
2012-06-27
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 17/50 申请日:20101018
实质审查的生效
2012-05-16
公开
公开
机译: 刻蚀过程的速率和刻蚀后的金属层表面性能得到改善的刻蚀金属层的解决方案,以及使用相同方法刻蚀金属层的方法
机译: 含5-氨基戊四唑作为抗腐蚀剂的含钛层的优异刻蚀速率的钛刻蚀剂组合物以及使用该方法形成半导体器件的方法
机译: 刻蚀用于半导体器件的金属层,包括用通过混合氯和氮形成的刻蚀气体刻蚀金属层的暴露部分。