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遮光片阵列、遮光片阵列制造方法及镜头模组阵列

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摘要

本发明涉及一种遮光片阵列，其包括一块透光平板。该透光平板具有多个间隔分布的透光区及在该透光区周围的粗糙区。该透光区为实心体结构。该遮光片阵列还包括设于该粗糙区的遮光层。该遮光片阵列可减少/消除眩光。本发明还涉及一种制造该遮光片阵列的方法及一种具有该遮光片阵列的镜头模组阵列。

公开/公告号CN101872033B

专利类型发明专利
公开/公告日2014-04-30

原文格式PDF
申请/专利权人鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司;
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申请/专利号CN200910301809.7
发明设计人洪新钦;
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申请日2009-04-24
分类号G02B5/00(20060101);G03F7/00(20060101);G02B7/02(20060101);H01L27/146(20060101);
代理机构
代理人
地址 518109 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号
入库时间 2022-08-23 09:18:48

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2017-06-09

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 5/00 授权公告日:20140430 终止日期:20160424 申请日:20090424

专利权的终止
2014-04-30

授权

授权
2012-02-15

实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 5/00 申请日:20090424

实质审查的生效
2010-10-27

公开

公开

1. 遮光片阵列、遮光片阵列制造方法及镜头模组阵列 [P] . 中国专利： CN101872033B . 2014.04.30
2. 遮光元件阵列、遮光元件阵列制造方法及镜头模组阵列 [P] . 中国专利： CN102023330A . 2011-04-20
3. Mask set for microarray, method of fabricating mask set, and method of fabricating microarray using mask set [P] . 美国专利： US7844940B2 . 2010-11-30

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4. Mask set for microarray, method of fabricating mask set, and method of fabricating microarray using mask set [P] . 欧洲知识产权局专利： EP1964947A1 . 2008-09-03

机译：用于微阵列的掩模组，制造掩模组的方法以及使用该掩模组制造微阵列的方法
5. MOLD FOR LENS ARRAY, METHOD FOR MANUFACTURING MOLD FOR LENS ARRAY, LENS ARRAY, LENS MODULE, AND IMAGING UNIT [P] . 日本专利： JP2011062925A . 2011-03-31

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