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膦硼烷化合物及其制造方法以及氢-膦硼烷化合物的制造方法

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本发明提供一种光学活性膦硼烷化合物及其制造方法，该光学活性膦硼烷化合物在制造光学活性膦配体方面有用，且可以容易地制造任意的对映体。本发明的膦硼烷化合物是以下述通式(P-1)表示。所述膦硼烷化合物的制造方法是使以下述通式(P-2)表示的氢-膦硼烷化合物与以下述通式(3)表示的光学活性异氰酸酯化合物进行偶合反应。下述式中，R

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公开/公告号CN101747377B

专利类型发明专利
公开/公告日2014-04-02

原文格式PDF
申请/专利权人日本化学工业株式会社;
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申请/专利号CN200910254275.7
发明设计人间山大辅;
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申请日2009-12-14
分类号
代理机构北京同立钧成知识产权代理有限公司;
代理人臧建明
地址日本东京江东区龟戸9丁目11番1号
入库时间 2022-08-23 09:18:30

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2014-04-02

授权

授权
2011-05-11

实质审查的生效 IPC(主分类):C07F 9/6568 申请日:20091214

实质审查的生效
2010-06-23

公开

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