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用于在电子柱中聚焦电子束的方法

摘要

本发明涉及用于在产生电子束的电子柱中改善聚焦的方法。根据本发明的用于控制电子束的聚焦的方法减小了当电子束到达试件时该电子束的光斑大小,从而能够提高分辨率并能够减小半导体光刻处理中的图案的线宽,由此能够改善电子的性能。

著录项

  • 公开/公告号CN101322218B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-03-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子线技术院株式会社;

    申请/专利号CN200680045633.8

  • 发明设计人 金浩燮;安承濬;金大旭;金荣喆;

    申请日2006-12-05

  • 分类号H01J37/147(20060101);

  • 代理机构11127 北京三友知识产权代理有限公司;

  • 代理人黄纶伟

  • 地址 韩国忠清南道

  • 入库时间 2022-08-23 09:18:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-03-26

    授权

    授权

  • 2009-02-04

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-12-10

    公开

    公开

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