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纳米无荧光粉氮化镓白光发光二极管的制作方法

摘要

一种纳米无荧光粉白光氮化镓发光二极管的制作方法,包括以下步骤:步骤1:取一衬底;步骤2:在衬底上外延生长GaN缓冲层1和n-GaN层;步骤3:在n-GaN层上通过纳米技术制作GaN纳米线模板;步骤4:在GaN纳米线模板上生长GaN过渡层;步骤5:在GaN过渡层上生长InGaN量子盘;步骤6:在InGaN量子盘上生长p-GaN层,形成基片;步骤7:将基片一侧的部分刻蚀掉,刻蚀深度到达n-GaN层内,形成台面;步骤8:在n-GaN层的台面上制作下电极;步骤9:在p-GaN层上制作上电极,完成发光二极管的制作。由于本方法采用的是纳米的模板的基底,能很好地释放应力,从而降低Droop效应,增加LED的发光效率。

著录项

  • 公开/公告号CN102610715B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-04-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN201210093601.2

  • 申请日2012-03-31

  • 分类号

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人汤保平

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号

  • 入库时间 2022-08-23 09:18:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-04-09

    授权

    授权

  • 2012-09-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 33/00 申请日:20120331

    实质审查的生效

  • 2012-07-25

    公开

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