一种电感应的可变浅结作为源漏区的浮栅型快闪存储器

摘要

一种可变浅结作为源漏区的浮栅结构快闪存储器，在基底P型半导体材料上方的两侧设有重掺杂N型半导体区域分别构成源极、漏极，基底中央区域的正上方依次设有底部遂穿层、浮栅存储层和顶部阻挡层，顶部阻挡层上方设有控制栅极；其中，浮栅存储层采用分裂结构，位于沟道中央正上方的局部区域内；浮栅存储层和源、漏区之间P型基底的上方是厚的栅氧化层，其上方为控制栅极。沟道指基底中央区域的形状；P型基底与浮栅存储层之间的底部遂穿层在低场下防止浮栅存储层中存储的电荷向基底流失，在编程和擦除高场下使电荷通过底部遂穿层并到达浮栅存储层，解决非挥发性快闪存储器的栅长缩小时受到严重的短沟道效应问题。