曝光方法、曝光装置、聚光图案形成组件、掩膜以及元件制造方法

摘要

一种曝光方法，可转印微细图案。该曝光方法包括第1曝光步骤以及第2曝光步骤，其中，上述第1曝光步骤是对以接近于基板(P)的方式而配置的掩膜(10)照射曝光光，将形成于该掩膜上的规定的图案曝光于基板上，上述第2曝光步骤是对以接近于上述基板的方式而配置、且具备多个聚光部(20a、20b)的聚光图案形成组件(20)照射曝光光，将规定形状的聚光图案曝光于上述基板上。经上述第1曝光步骤而曝光的规定的图案的至少一部分、与经上述第2曝光步骤而形成的上述聚光图案的至少一部分相重叠。