PVD设备及采用该PVD设备进行晶片处理的方法

摘要

本发明提出了一种PVD设备，包括：大气传输系统；至少两个负载锁闭器；传输腔室；与所述传输腔室相连并相通的至少四组反应腔室，每组反应腔室至少包括两个彼此相邻且功能相同的反应腔室；真空机械手，真空机械手设置在所述传输腔室之中，且真空机械手具有至少两个平行的机械臂；以及机械手控制器，且机械手控制器控制真空机械手从至少两个负载锁闭器中同时抓取相应的至少两个晶片，并将至少两个晶片按照预设的顺序依次放入至少四组反应腔室以对至少两个晶片进行至少第一至第四处理。本发明实施例可同时对至少两个晶片进行处理，从而增加了PVD设备的极限产出率。