法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-10-23
授权
授权
2010-11-17
实质审查的生效 IPC(主分类):B23K 35/26 申请日:20070814
实质审查的生效
2010-09-29
公开
公开
机译: 光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物,使用该组合物的图案形成方法和抗蚀剂膜,以及使用它们的电子器件制造方法和电子器件
机译: 有源光敏或辐射敏感树脂组合物,使用所述组合物的图案形成方法和抗蚀剂膜,以及使用它们的电子器件和电子器件的制造方法
机译: 光化射线敏感或辐射敏感的树脂组合物,抗蚀剂膜,涂覆抗蚀剂的掩模坯料,光掩模和图案形成方法,使用它们的电子器件的制造方法和电子器件