首页> 中国专利> 一种ZnS基底1064nm、8μm~10μm光波段大入射角增透膜及ZnS光窗

一种ZnS基底1064nm、8μm~10μm光波段大入射角增透膜及ZnS光窗

摘要

本发明涉及光学器件及其加工技术领域,具体公开了一种以ZnS为基底,在1064nm和8μm~10μm两个光波段具有大入射角高透过率的增透膜,同时还公开了一种采用该增透膜的ZnS光窗。该增透膜由六个膜层组成,第1、3、5膜层的膜料为YbF

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-11-13

    授权

    授权

  • 2012-03-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 1/11 申请日:20110929

    实质审查的生效

  • 2012-02-01

    公开

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