溅射靶表面含氧量的控制系统、探针及镀ITO膜的PET板制造方法

摘要

本发明公开了溅射靶表面含氧量的控制系统、探针及镀ITO膜的PET板制造方法。溅射靶表面含氧量的控制系统包括镀ITO膜真空室、溅射靶、探针、信号处理器、氧气流量计、氧气源，镀ITO膜真空室内置溅射靶、探针，探针采用表面镀铂的钨丝，探针置于靠近溅射靶处，其通过导线引出至处于镀ITO膜真空室之外的信号处理器，信号处理器把控制信号传输至氧气流量计，氧气流量计分别与镀ITO膜真空室、氧气源连通，氧气源通过氧气流量计与镀ITO膜真空室连通。本发明溅射靶表面含氧量的控制系统能够对充氧量进行自动控制，控制氧气流量的大小，使溅射成膜的含氧量稳定，特别适用于含氧量高的ITO膜的镀制。