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具有夹层结构的氮化物半导体结构和制作具有夹层结构的氮化物半导体结构的方法

摘要

一种半导体结构,包括第一层氮化物半导体材料、在所述第一层氮化物半导体材料上的基本未应变的氮化物夹层、以及在所述氮化物夹层上的第二层氮化物半导体材料。所述氮化物夹层具有第一晶格常数并且可以包括铝和镓并且可以利用n型掺杂剂进行导电掺杂。所述第一层和所述第二层一起具有至少大约0.5μm的厚度。所述氮化物半导体材料可以具有第二晶格常数,使得所述第一层在所述氮化物夹层的一侧可以比所述第二层在所述氮化物夹层的另一侧更多地拉伸应变。

著录项

  • 公开/公告号CN101627458B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-08-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 克里公司;

    申请/专利号CN200880007601.8

  • 发明设计人 A·W·萨克斯勒;A·A·小伯克;

    申请日2008-03-04

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人张雪梅

  • 地址 美国北卡罗来纳州

  • 入库时间 2022-08-23 09:15:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-08-07

    授权

    授权

  • 2010-04-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/20 申请日:20080304

    实质审查的生效

  • 2010-01-13

    公开

    公开

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