机译:具有部分底部-富含硅的氮化物结构的氧化硅-氮化物-氧化物-硅-非易失性半导体存储器件的耐久性和数据保留性能的提高
School of Defense Science, Chung-Cheng Institute of Technology, National Defense University, Tahsi, Taoyuan, 335, Taiwan, R. O. C.;
SONOS; endurance; radiation hardness; retention; flash memory;
机译:N_2O氧化隧道氧化物可提高氧化硅-氮化物-氧化硅-硅非易失性存储器的保留可靠性
机译:具有底部富硅和顶部富氮氮化物结构的UV总剂量非易失性传感器SONOS器件的性能改进
机译:SONOS装置的性能改进作为紫外线总剂量非挥发性传感器,具有底部硅和富氮氮化物结构
机译:改善Si纳米晶体非易失性存储器件的保持力和耐久性
机译:多晶硅-氮氧化物-氧化硅(SONOS)非易失性半导体存储器件的设计,制造和表征。
机译:半导体:基于并五苯/ P13 /并五苯作为电荷传输层和陷阱层的有机半导体异质结构的高性能非易失性有机场效应晶体管存储器(Adv。Sci。8/2017)
机译:SONOS装置的性能改进作为紫外线总剂量非挥发性传感器,具有底部硅和富氮氮化物结构
机译:用氮化siO(2)/ si(100)界面制备的sONOs非易失性存储器堆栈的循环耐久性;电子器件字母