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抗篡改半导体器件以及制造该抗篡改半导体器件的方法

摘要

本发明涉及一种抗篡改半导体器件,该抗篡改半导体器件包括衬底(5),所述衬底(5)包括布置在所述衬底(5)的第一侧上的电子电路。在所述衬底(5)的与所述第一侧相对的第二侧上布置导电保护层(50,50a,50b)。至少三个贯穿衬底的连接(45)从所述衬底(5)的第一侧延伸至衬底(5)中并且与所述衬底(5)第二侧的导电保护层(50,50a,50b)电接触。在所述第一侧上布置安全电路,所述安全电路连接至贯穿衬底的导电连接(45),并且被布置用于:通过贯穿衬底的导电连接(45)来测量导电保护层(50,50a,50b)的至少两个电阻值(R12,R23,R34,R14,R13,R24)。所述安全电路还被布置用于将所测量的电阻值(R12,R23,R34,R14,R13,R24)与基准电阻值进行比较。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-07-10

    授权

    授权

  • 2010-09-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06K 19/073 申请日:20080729

    实质审查的生效

  • 2010-07-07

    公开

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