微光刻投影曝光设备的投影物镜

摘要

本发明涉及一种微光刻投影曝光设备的投影物镜，用来将位于物平面的掩模图像投影至位于像平面的光敏涂层上，其中所述投影透镜具有光轴(OA)。为了能在使用高折射的结晶材料的同时限制本征双折射的消极影响，依据本发明一方面的投影透镜包括至少一个透镜(143、255、360、470)，所述至少一个透镜具有至少一个弯曲的透镜表面，并由以相互邻接关系彼此跟随的方式排列的至少四个本征双折射材料的透镜元件(143a-143d、255a-255d、360a-360d、470a-470d)按照沿着光轴(OA)组合而成，其中，所述四个透镜元件由两对透镜元件组成，其中两对具有彼此不同的晶体切向，并且其中每对中的透镜元件都具有相同的晶体切向并相对于彼此围绕光轴(OA)以旋转偏移进行排列。