公开/公告号CN102231360B
专利类型发明专利
公开/公告日2013-05-15
原文格式PDF
申请/专利权人 中微半导体设备(上海)有限公司;
申请/专利号CN201110141770.4
申请日2011-05-27
分类号
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司;
代理人骆苏华
地址 201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号
入库时间 2022-08-23 09:14:22
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-04-05
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 21/02 变更前: 变更后: 申请日:20110527
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2017-09-05
专利权质押合同登记的注销 IPC(主分类):H01L21/02 授权公告日:20130515 登记号:2009310000663 出质人:中微半导体设备(上海)有限公司 质权人:国家开发银行股份有限公司 解除日:20170809 申请日:20110527
专利权质押合同登记的生效、变更及注销
2017-09-05
专利权质押合同登记的注销 IPC(主分类):H01L 21/02 授权公告日:20130515 登记号:2009310000663 出质人:中微半导体设备(上海)有限公司 质权人:国家开发银行股份有限公司 解除日:20170809 申请日:20110527
专利权质押合同登记的生效、变更及注销
2015-04-22
专利权质押合同登记的生效 IPC(主分类):H01L21/02 登记号:2009310000663 登记生效日:20150202 出质人:中微半导体设备(上海)有限公司 质权人:国家开发银行股份有限公司 发明名称:等离子体刻蚀腔体内刻蚀气体调节方法 授权公告日:20130515 申请日:20110527
专利权质押合同登记的生效、变更及注销
2015-04-22
专利权质押合同登记的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 登记号:2009310000663 登记生效日:20150202 出质人:中微半导体设备(上海)有限公司 质权人:国家开发银行股份有限公司 发明名称:等离子体刻蚀腔体内刻蚀气体调节方法 授权公告日:20130515 申请日:20110527
专利权质押合同登记的生效、变更及注销
2015-04-22
专利权质押合同登记的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 登记号:2009310000663 登记生效日:20150202 出质人:中微半导体设备(上海)有限公司 质权人:国家开发银行股份有限公司 发明名称:等离子体刻蚀腔体内刻蚀气体调节方法 授权公告日:20130515 申请日:20110527
专利权质押合同登记的生效、变更及注销
2013-05-15
授权
授权
2013-05-15
授权
授权
2013-05-15
授权
授权
2011-12-14
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/02 申请日:20110527
实质审查的生效
2011-12-14
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20110527
实质审查的生效
2011-12-14
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20110527
实质审查的生效
2011-11-02
公开
公开
2011-11-02
公开
公开
2011-11-02
公开
公开
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机译： 等离子体刻蚀装置的电极中引入气体的测量方法，电极，电极再生方法，再生电极，等离子体刻蚀器中的气体以及引入孔态分布图的气体及其显示方法
机译： 等离子体刻蚀装置的电极中引入气体的测量方法，电极，电极再生方法，再生电极，等离子体刻蚀器中的气体以及引入孔态分布图的气体及其显示方法
机译： 等离子体刻蚀装置的电极中引入气体的测量方法，电极，电极再生方法，再生电极，等离子体刻蚀器中的气体以及引入孔态分布图的气体及其显示方法
