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等离子体刻蚀过程中有害气体净化的原理和方法

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摘要

叙述了等离子体刻蚀过程中产生的有害气体以及处理这些有害气体的原理和方法.对燃烧分解、化学中和、薄膜吸气、等离子体净化及脉冲电晕放电等作了简要的概述.指出等离子体净化和脉冲电晕放电是净化有害气体的较好方法.

著录项

来源
《真空电子技术》 |2003年第5期|32-34|共3页
作者
黄光周; 马国欣; 于继荣; 杨英杰; 周仲浩;
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作者单位

华南理工大学,电子与信息学院,广东,广州,510640;

华南理工大学,电子与信息学院,广东,广州,510640;

华南理工大学,电子与信息学院,广东,广州,510640;

华南理工大学,电子与信息学院,广东,广州,510640;

华南理工大学,电子与信息学院,广东,广州,510640;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TN405.98+2;
关键词
半导体; 等离子体; 有害气体; 环境保护;

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