一种ECCP干法等离子刻蚀设备零备件Chamber WALL维护的工艺方法

摘要

本发明涉及蚀刻技术领域，尤其涉及一种ECCP干法等离子刻蚀设备零备件Chamber WALL维护的工艺方法，工艺流程包括：干冰去污、化学腿膜、研磨、化抛、阳极氧化、超纯水封孔、清洗、干燥、真空包装，本发明所采用的维护方法，其阳极处理工艺所产生的废水为无机酸、碱液清洗水，不含重金属及有机染色剂等污染物，清洁环保，且流程简单易于实施。且通过实践发现，所得产品性能更佳。