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垂直腔面发射激光器以及垂直腔面发射激光器的制造方法

摘要

本发明提供一种垂直腔面发射激光器,其具备第一分布式布拉格反射器、有源层和第二分布式布拉格反射器。第一分布式布拉格反射器、有源层以及第二分布式布拉格反射器沿第一轴的方向依次排列。第二分布式布拉格反射器包含半导体区以及高电阻区。高电阻区具有比半导体区的电阻高的电阻。第一轴通过半导体区。高电阻区包围半导体区。在包含第一轴的截面中,高电阻区具有以高电阻区的内径在第一轴的方向上随着远离有源层而变大的方式在相对于第一轴倾斜的方向上延伸的内缘。

著录项

  • 公开/公告号CN115642478A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2023-01-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 住友电气工业株式会社;

    申请/专利号CN202210648909.2

  • 发明设计人 井上大辅;藤田朗人;

    申请日2022-06-09

  • 分类号H01S5/183;

  • 代理机构北京聿宏知识产权代理有限公司;

  • 代理人吴大建;霍玉娟

  • 地址 日本大阪府

  • 入库时间 2023-06-19 18:24:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-01-24

    公开

    发明专利申请公布

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