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反射式贝塞尔激光微纳加工装置及方法

摘要

本发明提供一种反射式贝塞尔激光微纳加工装置及方法,涉及激光微纳加工技术领域。反射式贝塞尔激光微纳加工装置包括光源组件、反射式贝塞尔组件、光束聚焦组件和控制组件,光源组件适于发射激光光束,反射式贝塞尔组件适于将激光光束整形为贝塞尔光束,并改变贝塞尔光束的传播方向以形成反射式贝塞尔光束,光束聚焦组件适于汇聚反射式贝塞尔光束,控制组件适于控制反射式贝塞尔光束的聚焦点与工件之间的相对位置。应用本发明提供的反射式贝塞尔激光微纳加工装置及方法,可以实现对工件的高精度加工,提高成品率。

著录项

  • 公开/公告号CN115555708A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2023-01-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 清华大学;

    申请/专利号CN202211275611.8

  • 发明设计人 周明;冯世嘉;杨名扬;林佳聪;

    申请日2022-10-18

  • 分类号B23K26/06;B23K26/046;

  • 代理机构北京路浩知识产权代理有限公司;

  • 代理人周琦

  • 地址 100084 北京市海淀区双清路30号清华大学清华园北京100084-82信箱

  • 入库时间 2023-06-19 18:11:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-01-03

    公开

    发明专利申请公布

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