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一种基于黑硅的表面增强拉曼光谱基底制备方法

摘要

本发明涉及一种光学材料制备方法,具体涉及一种基于黑硅的表面增强拉曼光谱基底制备方法,以解决现有技术通常都涉及较为复杂的材料合成以及加工工艺,难以实现短时间内大规模制备的技术问题。该制备方法,包括以下步骤:S1.1在SF6氛围中,通过飞秒激光进行辐照,获得黑硅;将黑硅通过激光切割为黑硅切片;S1.2通过蒸发镀膜的方式,在黑硅切片表面沉积不同厚度的贵金属薄膜,获得黑硅基底;将多片黑硅基底分别浸入到不同浓度的4‑MBA标准乙醇溶液中,然后取出并干燥;采集各黑硅基底表面的拉曼光谱,以拉曼光谱中4‑MBA分子特征峰峰值最大值对应的黑硅基底表面贵金属薄膜厚度,作为贵金属薄膜的最优厚度;S2制备表面增强拉曼光谱基底。

著录项

  • 公开/公告号CN115287606A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-11-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202210914489.8

  • 申请日2022-07-29

  • 分类号C23C14/30;C23C14/26;C23C14/16;C23C14/02;C23C14/58;G01N21/65;B23K26/38;B23K26/402;

  • 代理机构西安智邦专利商标代理有限公司;

  • 代理人杨引雪

  • 地址 710119 陕西省西安市高新区新型工业园信息大道17号

  • 入库时间 2023-06-19 17:27:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-11-04

    公开

    发明专利申请公布

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