公开/公告号CN115257149A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-11-01
原文格式PDF
申请/专利权人 德中(天津)技术发展股份有限公司;
申请/专利号CN202210710540.3
申请日2022-06-22
分类号B41C1/14;B41M5/00;
代理机构天津合正知识产权代理有限公司;
代理人马云云
地址 300384 天津市西青区华苑产业园区海泰华科一路11号C座
入库时间 2023-06-19 17:24:03
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-11-01
公开
发明专利申请公布
机译: 掩膜毛坯,具有抗蚀膜的掩膜毛坯,具有抗蚀剂图案的掩膜毛坯,其制造方法和制造转印膜的方法
机译: 空白照片掩膜,其制造方法以及使用足以处理照片掩膜的转印图案形成区域的方法制造照片掩膜的方法
机译: 用于激光感应热成像的唐纳膜以及使用其制造有机发光器件的方法,该方法能够形成高分辨率的转印图案