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成膜用雾化装置及使用了该成膜用雾化装置的成膜装置

摘要

本发明是一种成膜用雾化装置,其具有:原料容器,其容纳原料溶液;筒状部件,其在空间上连接所述原料容器的内部与外部,且设置为其下端在所述原料容器内不与所述原料溶液的液面接触;超声波发生器,其具有一个以上的照射超声波的超声波发生源;以及液槽,其使所述超声波经由中间液传播至所述原料溶液,其中,所述超声波发生源位于所述液槽的外侧,所述超声波发生源的中心位于所述原料容器的侧壁的内侧的延长所形成的面与所述筒状部件的侧壁的外侧的延长所形成的面之间,当将所述超声波发生源的超声波射出面的中心线设定为u时,以所述中心线u不与所述筒状部件的侧壁相交的方式设置超声波发生源。由此,提供一种能够形成抑制了颗粒附着的高品质的薄膜的成膜用雾化装置。

著录项

  • 公开/公告号CN115175769A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-10-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202180016328.0

  • 发明设计人 桥上洋;川原村敏幸;

    申请日2021-02-18

  • 分类号B05B17/06;H01L21/365;H01L21/368;C23C16/455;

  • 代理机构北京路浩知识产权代理有限公司;

  • 代理人张晶;刘余婷

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-06-19 17:04:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-10-11

    公开

    国际专利申请公布

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