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公开/公告号CN115038823A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-09-09
原文格式PDF
申请/专利权人 硅电子股份公司;
申请/专利号CN202180012478.4
发明设计人 T·莱曼;D·策姆克;
申请日2021-01-27
分类号C30B15/10;C03C17/00;C30B35/00;C03B19/06;
代理机构永新专利商标代理有限公司;
代理人过晓东
地址 德国慕尼黑
入库时间 2023-06-19 16:44:31
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-09-09
公开
国际专利申请公布
机译: 用于石英玻璃坩埚的合成石英玻璃粉,其制造方法以及使用合成硅玻璃粉制造石英玻璃坩埚的方法
机译: 用于设定石英玻璃坩埚的制造条件的装置,用于设定石英玻璃坩埚的制造条件的装置,用于对硅微合金进行拔出的条件设定的,用于校正的条件的装置
机译: 用于设定石英玻璃坩埚的制造条件的装置,用于设定石英玻璃坩埚的制造条件的装置,用于对硅单线的输入进行设定的条件设定的装置
机译:进行涂层和扩散研究以改善石英玻璃坩埚用于制备半导体单晶硅的性能
机译:带有集成石英玻璃(熔融石英)尖端的硅悬臂探针的制造和表征,用于扫描近场光学显微镜
机译:用于熔融坩埚中的熔体生长的太阳能电池N型Czochralski硅晶体的质量
机译:使用设计的双坩埚实现浮动施放方法的浮动施放方法,用于使用设计的双坩埚的大规模高度多晶硅锭
机译:用于经典和量子信息处理的单电子硅晶体管的制造:纳米镶嵌方法
机译:自顶向下纳米制造硅纳米带场效应晶体管(Si-NR FET)用于癌胚抗原检测
机译:冷坩埚感应熔化熔体试验用于晶体陶瓷废料制造:可行性评估
机译:用于熔盐和钚兼容性研究的氮化铝坩埚的制造。