NiP改性层化学机械抛光液及其制备方法和应用

摘要

本发明公开了一种NiP改性层化学机械抛光液及其制备方法和应用，该抛光液按照质量百分含量计包含以下组分：15％～30％的抛光磨料、1％～10％的氧化剂、1％～5％的络合剂、1％～5％的表面活性剂，其余为水，其中抛光磨料为二氧化硅，抛光液的pH值为6.5～7.5。其制备方法包括先将抛光磨料、络合剂、表面活性剂与水混合，进而加入氧化剂和调节pH值至设定值。本发明NiP改性层化学机械抛光液，能够实现化学腐蚀作用与机械去除作用的平衡，可用于对NiP改性层进行化学机械抛光，能够实现对NiP改性层的高精度加工，可以获得高质量的加工表面，使得NiP改性层能够满足各种需求。