使用独立离子源与自由基源进行衬底处理的装置以及技术

摘要

一种系统可包括用以支撑衬底的衬底载台及多个束源。所述多个束源可包括：离子束源，所述离子束源被布置成将离子束引导到所述衬底；以及自由基束源，所述自由基束源被布置成将自由基束引导到所述衬底。所述系统可包括控制器，所述控制器被配置成控制所述离子束源及所述自由基束源在至少一个方面彼此独立地运行，其中所述至少一个方面包括束组成、束入射角以及束源相对于所述衬底的相对扫描。