基于双光梳干涉法的光梳绝对模式数测量装置及方法

摘要

本发明涉及精密测量领域，公开了一种基于双光梳干涉法的光学频率梳绝对模式数测量装置及方法，包括激光器、第一光学频率梳、第二光学频率梳；第一光学频率梳发出的激光被分为第一参考光束和第一测量光束两束光，其中第一参考光束经计频器测量其重复频率；第二光学频率梳发出的激光与第一测量光束经第一合光器件后重合并发生干涉，干涉信号入射至探测器，然后经带通滤波器和数字转换器后转换为数字干涉信号，并发送至数据处理单元计算光学频率梳的绝对模式数；第一光学频率梳的偏置频率和与激光器的拍频频率被锁定，第二光学频率梳的重复频率、偏置频率和与激光器的拍频频率被锁定。本发明测量简单快速，可以实现在线测量。