用于控制掩模形状并打破选择性与工艺裕度权衡的多态RF脉冲

摘要

一种用于在等离子体处理系统中对衬底进行蚀刻处理的方法，该方法包括：将源RF功率和偏置RF功率施加到电极，其中源RF功率和偏置RF功率是一起定义多个多态脉冲RF循环的脉冲信号，每个循环具有第一状态、第二状态和第三状态；其中第一状态由具有第一源RF功率电平的源RF功率和具有第一偏置RF功率电平的偏置RF功率定义；其中第二状态由源RF功率和具有基本上为零的功率电平的偏置RF功率定义；以及其中第三状态由具有小于第一源RF功率电平的第二源RF功率电平的源RF功率，以及具有基本上为零的功率电平的偏置RF功率定义。