提升拼接工艺窗口容许度的方法

摘要

本发明提供一种提升拼接工艺窗口容许度的方法，包括：切割目标图形得到多个初始图形，各所述初始图形包括多个子图形；对各所述初始图形在切割线位置进行补偿处理以得到多个修正图形；将所述修正图形做在多块掩模板上；利用多个所述掩模板对晶圆依次进行曝光，其中，曝光在晶圆上的两两相邻的修正图形的切割线完全重合。本申请通过对初始图形直接在切割线位置直接进行补偿，然后利用补偿后的修正图形上的切割线重合来对晶圆进行曝光，避免了拼接位置的初始图形断线和偏移的情况，提升了拼接位置的初始图形的错位和相互远离的容许度，保证了拼接曝光工艺的准确度和可靠性，也改善了套刻精度，提高了产品良率。