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用于等离子体加工的三阶段脉冲系统和方法

摘要

一种等离子体加工方法包括执行反应性物质控制阶段、执行离子/自由基控制阶段以及执行副产物控制阶段。反应性物质控制阶段包括以脉冲方式向加工室施加源功率以在等离子体中生成离子和自由基。在反应性物质控制阶段之后执行离子/自由基控制阶段。离子/自由基控制阶段包括降低到加工室的源功率并且以脉冲方式向加工室中的衬底施加偏置功率。在离子/自由基控制阶段之后执行副产物控制阶段。副产物控制阶段包括相对于反应性物质控制阶段降低到加工室的源功率并且相对于离子/自由基控制阶段降低到衬底的偏置功率。

著录项

  • 公开/公告号CN114207766A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-03-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;

    申请/专利号CN202080055216.1

  • 申请日2020-04-28

  • 分类号H01J37/32(20060101);

  • 代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人陈炜;杨丽琴

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-06-19 14:32:54

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-18

    公开

    国际专利申请公布

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