酸扩散抑制剂、含酸扩散抑制剂的化学放大型光刻胶及其制备与使用方法

摘要

本发明提供一种酸扩散抑制剂、含酸扩散抑制剂的化学放大型光刻胶及其制备与使用方法。所述酸扩散抑制剂为含有羟基哌啶的衍生物，结构通式如下：其中，R1为极性基团，R2为化学键或亚烷基，R3为烷基。所述光刻胶包括如下的各组分：聚合物树脂、光致产酸剂、上述酸扩散抑制剂、流平剂和溶剂。所述制备方法为将上述各组分混合。所述使用方法为将光刻胶旋涂在硅片上，依次经过前烘、曝光、后烘和显影，得到光刻图案。本发明的酸扩散抑制剂，用于化学放大型光刻胶，使形成的光刻图案具有良好的图形侧壁的垂直、灵敏度和聚焦深度。