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公开/公告号CN114114506A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-03-01
原文格式PDF
申请/专利权人 宁波激智科技股份有限公司;
申请/专利号CN202111006043.7
发明设计人 余洋;夏寅;缪锴;冯金刚;赵国林;李刚;唐海江;张彦;
申请日2021-08-30
分类号G02B5/30(20060101);G02B5/04(20060101);G02F1/13357(20060101);
代理机构11405 北京德和衡律师事务所;
代理人樊培伟
地址 315040 浙江省宁波市高新区晶源路9号
入库时间 2023-06-19 14:20:35
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-03-01
公开
发明专利申请公布
机译: 用于有机绝缘膜的光敏树脂组合物,一种有机绝缘膜,一种显示装置,其包括通过使聚偏二甲基硅氧烷为基础的化合物来最小化在开发过程中膜的损失的能力。
机译: 包含一种或多种保光膜的光学膜
机译: 一种生产线和膜的方法,该线和膜是由含有聚乙烯醇的氯乙烯和/或偏二氯乙烯聚合物的水性乳液制成的
机译:由聚(偏二氟乙烯)(PVDF)/氧化石墨烯(RGO)纳米复合膜(RGO)纳米复合膜表现出令人印象深刻的非线性光学响应
机译:升六酮掺入,β相改善聚(偏二氟乙烯)复合膜的屏蔽效果研究:一种用于减少电磁污染的超材料
机译:一种核 - 壳结构聚丙烯腈@聚(偏二氟乙烯 - 六氟丙烯)超细纤维复合膜作为分离器通过共轨静电纺丝
机译:一种用于测量液体折射率变化的保偏瞬逝场传感器
机译:用于天文应用的保偏波导滤波器。
机译:从标准到保偏和光子晶体光纤的电弧诱导长周期光栅
机译:基于电沉积的Ni基磁性介孔膜作为原子层沉积的智能表面:一种朝向3D纳入复合层的全化学沉积方法
机译:共聚物中电子 - 声子耦合的变化 - 偏二氟乙烯薄膜(70%)与三氟乙烯(30%)的共聚物膜