一种可变磁轨式装置、真空镀膜设备和真空镀膜方法

摘要

本发明公开了一种可变磁轨式装置、真空镀膜设备和真空镀膜方法，属于真空镀膜技术领域。可变磁轨式装置包括靶材、电磁线圈组和电源模块，靶材包括待烧蚀面；电磁线圈组设置于所述靶材远离所述待烧蚀面的一侧，通过调节电磁线圈的电流参数，使电磁线圈组相互耦合产生磁拱来回移动的磁场，从而控制弧斑在待烧蚀面上来回移动，产生扫描的移动效果。增加弧斑的烧蚀面积，提高靶材利用率，避免热量集中，减少烧蚀过程中产生的液滴，提高涂层性能。在磁拱移动的过程中，磁场强度可以做到几乎不变，确保了溅镀的工艺参数的稳定性，有助于提高工艺稳定性；另外，磁场发生装置结构简单耐用，避免了复杂的机械运动结构长期使用时容易出现损坏的问题。