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一种砷化镓研磨冷却水循环使用设备及其使用方法

摘要

本发明涉及一种砷化镓研磨冷却水循环使用设备及其使用方法,属于半导体废水处理技术领域。设备包括研磨设备、竖流式沉淀池、沉淀池A、沉淀池B、平流式沉淀池和过滤器,其中,研磨设备排水口连接至竖流式沉淀池,竖流式沉淀池通过絮凝剂添加器分别连接至沉淀池A和沉淀池B,沉淀池A和沉淀池B均连接至平流式沉淀池,平流式沉淀池通过水泵连接至过滤器,过滤器连接至研磨设备进水口。本发明实现冷却水的循环使用,有效降低总用水量,降低废水总量的产生,提高冷却水净化效率,同时避免砷化镓碎屑对研磨的速率、破片率产生不良影响。

著录项

  • 公开/公告号CN114057315A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 山东浪潮华光光电子股份有限公司;

    申请/专利号CN202010747294.X

  • 发明设计人 彭璐;赵克家;郭晓东;

    申请日2020-07-29

  • 分类号C02F9/04(20060101);C02F101/10(20060101);

  • 代理机构37219 济南金迪知识产权代理有限公司;

  • 代理人赵龙群

  • 地址 261061 山东省潍坊市市辖区高新区金马路9号

  • 入库时间 2023-06-19 14:14:25

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):C02F 9/04 专利申请号:202010747294X 申请日:20200729

    实质审查的生效

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