公开/公告号CN114059576A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-02-18
原文格式PDF
申请/专利权人 中国海洋大学;
申请/专利号CN202210051566.1
申请日2022-01-18
分类号E02D27/16(20060101);E02D27/42(20060101);E02D27/52(20060101);E02D31/06(20060101);F03D13/25(20160101);G06F30/13(20200101);G06F113/06(20200101);G06F113/08(20200101);
代理机构37108 山东济南齐鲁科技专利事务所有限公司;
代理人赵明媚
地址 266000 山东省青岛市崂山区松岭路238号
入库时间 2023-06-19 14:14:25
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-03-08
实质审查的生效 IPC(主分类):E02D27/16 专利申请号:2022100515661 申请日:20220118
实质审查的生效
机译: 光刻术布局设计方法,光刻术布局设计设备以及包含一个或多个命令的计算机可读介质,用于执行光刻术布局设计的一种或多种命令
机译: 半导体器件,图案布局设计方法,曝光掩模,掩模图案设计方法,半导体器件制造方法和布局设计方法
机译: 布局设计方法和用于执行布局设计方法的布局设计系统