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在半导体阱上具有到掺杂半导体的雪崩结的集成电路结构

摘要

本发明涉及在半导体阱上具有到掺杂半导体的雪崩结的集成电路结构。本公开的实施例提供了一种集成电路(IC)结构,其包括位于半导体衬底中的掺杂阱,以及位于掺杂阱中的基极区、发射极区和集电极区。绝缘材料位于掺杂阱内,其具有水平地邻近集电极区的第一端以及与第一端相对的第二端。掺杂半导体区位于掺杂阱内并邻近绝缘材料的第二端。掺杂半导体区被定位成跨掺杂阱在集电极区与掺杂半导体区之间限定雪崩结。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/02 专利申请号:2021108798043 申请日:20210802

    实质审查的生效

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