公开/公告号CN114072020A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-02-18
原文格式PDF
申请/专利权人 耐克创新有限合伙公司;
申请/专利号CN202080049867.X
申请日2020-08-12
分类号A41H43/00(20060101);A41D27/08(20060101);
代理机构11262 北京安信方达知识产权代理有限公司;
代理人李慧慧;杨明钊
地址 美国俄勒冈州
入库时间 2023-06-19 14:12:50
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-03-08
实质审查的生效 IPC(主分类):A41H43/00 专利申请号:202080049867X 申请日:20200812
实质审查的生效
机译: 膜形成材料,用于光刻的膜形成组合物,用于光学成分形成的材料,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,用于抗蚀剂的永久膜,辐射敏感组合物,用于制造非晶膜,膜的材料,基底膜用于光刻的底层膜形成,用于光刻的底层膜的制造方法以及电路图案形成方法
机译: 制备材料基底的方法以制备基底。通过反应催化以用户定义的图案将材料沉积在基底上,并通过工艺自动催化以用户定义的图案镀锌在基底上的金属。 ,油墨配方
机译: 用于光刻的化合物,树脂和方法,光刻的基底膜形成材料,基底膜形成组合物和基底膜,形成抗蚀剂图案的方法,形成电路图案的方法