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一种异质外延单晶金刚石复制生长方法

摘要

本发明公开了一种异质外延单晶金刚石复制生长方法,在第一异质外延衬底上制备晶向为(001)的第一Ir膜层;在第一Ir膜层的第一表面制备出(001)方向的第一外延金刚石核;使第一外延金刚石核外延生长,在第一Ir膜层的第一表面上形成(001)方向的第一单晶金刚石,得到第二外延衬底;清洗第二外延衬底,得到Ir/Dianomd衬底;在第一Ir膜层的第二表面上制备第二外延金刚石核;使第二外延金刚石核在MP‑CVD中生长,得到第二单晶金刚石;本发明中衬底以及生长层均为单晶金刚石,具有相同的热膨胀系数,利用异质外延单晶金刚石作为衬底,可以提高二次生长的单晶金刚石的晶体质量。

著录项

  • 公开/公告号CN114016128A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安交通大学;

    申请/专利号CN202111228647.6

  • 申请日2021-10-21

  • 分类号C30B25/18(20060101);C30B29/04(20060101);C23C14/18(20060101);C23C14/35(20060101);C23C16/02(20060101);C23C16/27(20060101);C23C16/511(20060101);

  • 代理机构61257 西安维赛恩专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人李明全

  • 地址 710049 陕西省西安市碑林区咸宁西路28号

  • 入库时间 2023-06-19 14:08:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-02-08

    公开

    发明专利申请公布

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