法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-04-19
授权
发明专利权授予
机译: 光学邻近效应校正方法,光学邻近效应校正装置,光学邻近效应校正程序,制造半导体装置的方法,图案设计限制开发方法和光学邻近效应校正的计算方法
机译: 光学邻近效应校正方法和装置,光学邻近效应验证方法和装置,曝光掩模的制造方法,进一步的光学邻近效应校正程序和光学邻近效应验证程序
机译: 光学邻近效应校正方法和装置,光学邻近效应验证方法和装置,制造曝光掩模的方法以及光学邻近效应校正程序和光学邻近效应验证程序