静电吸盘装置、干蚀刻设备及干蚀刻方法

摘要

本发明提供了一种静电吸盘装置、干蚀刻设备及干蚀刻方法，静电吸盘装置包括基座、电介质层、电极电路及供电电路，电极电路包括多个独立的正电极和负电极，多个正电极与多个负电极相互交错分散并相互绝缘设置，供电电路包括与正电极连接的正电源供电子电路，及与负电极连接的负电源供电子电路，供电电路具有切换选择功能，能实现单电极吸附与双电极吸附的切换控制；基于静电吸盘装置中供电电路的切换选择，既能吸附半导体基板，同时，基于静电吸盘装置的正电极与干蚀刻设备中电浆的负电荷之间的库伦吸引力又能吸附非导体基板，实现了半导体基板与非导体基板的兼容吸附，提高了机台的利用效率。