公开/公告号CN114001637A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-02-01
原文格式PDF
申请/专利权人 上海应用技术大学;
申请/专利号CN202111270535.7
申请日2021-10-29
分类号G01B7/16(20060101);G01B11/16(20060101);D01F1/09(20060101);D01F9/04(20060101);D06M11/53(20060101);D06M15/643(20060101);D06M11/00(20060101);
代理机构31001 上海申汇专利代理有限公司;
代理人翁若莹
地址 200235 上海市徐汇区漕宝路120号
入库时间 2023-06-19 14:05:00
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-02-01
公开
发明专利申请公布
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机译: 应力分析中用于形成涂膜层的涂敷液和应力发光结构以及应力分析中的所述应力测量中的应力发光结构
机译: 3种制造相同应变传感器(包括相同应变传感器)的高度可拉伸三维渗透导电纳米网络结构方法