用于原子层沉积（ALD）的设备和方法

摘要

本发明涉及用于根据原子层沉积(ALD)原理以批处理方式处理一个或多个基材的设备(1)和方法。设备(1)包括反应室(2)、用于关闭反应室(2)的室板(3)、马达(9)以及连接至所述马达(9)的致动器臂机构(5)，所述马达(9)被布置成使室板(3)在打开位置和关闭位置之间移动，在所述打开位置中反应室(2)是打开的，在所述关闭位置中反应室(2)被关闭。致动器臂机构(5)具有三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)，该三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)具有连接至室板(3)的远端，三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)的远端限定在室板(3)上的平面。