首页> 中国专利> 对准、重叠、配置标记、制造图案形成装置和图案化标记的方法

对准、重叠、配置标记、制造图案形成装置和图案化标记的方法

摘要

一种谐振振幅光栅标记具有周期性结构,所述周期性结构被配置为散射入射(600)到对准标记上的波长为λ的辐射(602)。散射主要是由于将入射辐射耦合到周期性结构中的波导模式而造成的。周期性结构的各部分的有效折射率(nl,n2)和长度(dl,d2)被配置为提供单位单元在周期性方向上的光路长度(n1d1+n2d2),所述光路长度(n1d1+n2d2)等于辐射的光谱中呈现的波长的整数倍(mλ)。这些部分的有效折射率(nl,n2)和长度(dl,d2)还被配置为提供第二部分在周期性方向上的光路长度(n2d2),所述光路长度(n2d2)为辐射的光谱中呈现的波长的0.30倍至0.49倍。

著录项

  • 公开/公告号CN114008540A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN202080045170.5

  • 申请日2020-06-15

  • 分类号G03F9/00(20060101);G03F7/20(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人张启程

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2023-06-19 14:05:00

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号